昨儿联系实际延伸一点,但离实际还是有点距离,心有不甘,再续一篇,希望有用。
阈值电压公式如下,上篇已对各项进行了说明。需要注意的是,公式中没有出现电流。

而在实际中,阈值电压如下,测试条件为IC=18mA,VCE=VGE,Tj=25℃。

这可咋整呢?!为何会出现这种差异呢?!小江试着巴拉巴拉,希望给客官们一点启示。
阈值电压公式是基于物理模型推导所得,在实际中,通常采用JEDEC标准,对阈值电压进行定义。
根据JEDEC规定(JEDEC 14.2.2 Hot Carrier Working Group,1995),有两种计算阈值电压的方法:
A、Constant current threshold voltage(VT(Ci)),恒定电流法,其定义方法为:

B、Extrapolated threshold voltage(VT(ext)),跨导外推法,其定义方法为:

实际中,通常采用方法A。
阈值电压与转移特性曲线相关。阈值电压为“点”,转移特性为“线”。

小结:
1、阈值电压公式分理论公式(物理模型)和实际公式(特性描述)两种;
2、实际公式有恒定电流法和跨导外推法两种;
3、最常用的为恒定电流法。
建议如下:
1、排除问题时采用理论公式;
2、恒定电流法可多选取几个电流值;
3、不可“以点概面”,阈值出问题,先看转移特性曲线,尤其是小电流段。
心得:
1、理论公式在实际中不适用;
2、实际公式反映器件的特性,经济实用;
3、实际公式为表,理论公式为里。
全文完,客官们轻怕!
本打算再写个续续续的,就不丢人了,在此对整个系列做个总结。
1、阈值电压是蛮重要的参数;
2、阈值电压是半导体表面发生反型时的电压;
3、阈值电压由加个氧化层电压和半导体表面电压两部分组成;
4、阈值电压与氧化层厚度(dox)正相关,与半导体掺杂(NA)正相关;
5、实际中,阈值电压还需考虑金属-半导体功函数差、氧化层电荷的影响;
6、实际中,阈值电压常采用恒定电流法获得。
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